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詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 進口 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 環保,化工,石油,能源,電子/電池 |
氦氣和氮氣純化器
載氣的純化在靈敏度要求高的任何應用中都是要存在的，不純氣體會影響檢測器的靈敏度，甚至損壞毛細柱。氦氣純化器（HP2）可以隨時提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體，例如可以將 Ne、Ar、Kr 和Xe 中的 ppm 級以下的不純氣體純化。
氮氣純化器（NP2）同樣地作用于氮氣。 氣體純化器的純化基質是一種無揮發性、有加熱活化的吸附性合金， 此穩定的合金包含在焊接組件中，所以可以安全簡單地使用。吸附劑粒子 表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環境下完成，這樣可允許氦氣在其間自由擴散，防止氧氣鈍化層的形成。氦氣和氮氣純化器有一自動調控的特征設計，它保持吸附劑材料于最適溫度，消除了熱量流失的可能性。
氦氣純化器
z 可純化氣體：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn
z 最高操作壓強：1000 psig
z 可去除雜質：出口雜質低于 10ppb H2O、H2、O2、N2、NO、NH3、CO、CO2和 CH4，此基于 10ppm 入口雜質總量，其它去除雜質包括 CF4、CCl4、SiH4和輕質烴。
z 未被去除雜質：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn
氮氣純化器
z 可純化氣體：只有 N2
z 最高操作壓強：1000 psig
z 可去除雜質：出口雜質低于 10ppb H2O、H2、O2、NO、NH3、CO、CO2和 CH4，此基于 10ppm 入口雜質總量，其它去除雜質包括 CF4、CCl4、SiH4和輕質烴。
z 未被去除雜質：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn、N2
注意事項：
警告
此產品不能用于氧氣——純氧氣或含大量氧氣組分的其他氣體。凈化器的吸氣合金在操作溫度下可自燃。使用大量氧氣會引起材料爆炸，可能損壞周圍區域，或造成人員傷害。
在任何情況下，無論基于合同、侵權或任何其他法律概念，不論被告是否了解這類損壞的可能性，Valco 儀器公司對任何直接、間接、特殊的、偶然的或間接的損壞將不予負責。
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